Diseño y simulación de un reactor de deposición química de vapor (CVD) para recubrimientos de arseniuro de galio

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dc.contributor.advisorAlex Toledo Vázquez
dc.coverage.spatialMéxico
dc.creatorAllan Joseph Ayala Lara
dc.date2018
dc.date.accessioned2025-03-31T21:47:57Z
dc.date.available2025-03-31T21:47:57Z
dc.descriptionDeposición química de vapor (CVD), Diseño asistido por computadora (CAD), Ingeniería asistida por computadora (CAE), Dinámica de fluidos computacional (CFD)
dc.formatDigital
dc.identifier.urihttp://200.33.10.98:4000/handle/123456789/10289
dc.languageEs
dc.relationM_SIMEC_Ayala_Lara_AJ
dc.rights.licenseDerechos de Autor Tesis Digitales Restricciones de uso DERECHOS RESERVADOS © PROHIBIDA SU REPRODUCCIÓN TOTAL O PARCIAL Todo el material contenido en esta tesis está protegido por la Ley Federal del Derecho de Autor (LFDA) de los Estados Unidos Mexicanos (México). El uso de textos, imágenes, gráficas, fragmentos de videos, y demás material que sea objeto de protección de los derechos de autor, será exclusivamente para fines educativos e informativos y deberá citar la fuente de donde la obtuvo mencionando el autor o autores involucrados en el documento. Cualquier uso distinto como el lucro, reproducción, edición o modificación, será perseguido y sancionado por el respectivo titular de los Derechos de Autor Secretaría General Vicerrectoría de Investigación Dirección del Centro de Recursos para el Aprendizaje y la Investigación. Biblioteca Central - Karol Wojtyla
dc.subjectMaestría en Sistemas Integrados de Manufactura y Estrategias de Calidad
dc.titleDiseño y simulación de un reactor de deposición química de vapor (CVD) para recubrimientos de arseniuro de galio
dc.typeDigital

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