Diseño y simulación de un reactor de deposición química de vapor (CVD) para recubrimientos de arseniuro de galio

Loading...
Thumbnail Image

Date

Journal Title

Journal ISSN

Volume Title

Publisher

Abstract

Description

Deposición química de vapor (CVD), Diseño asistido por computadora (CAD), Ingeniería asistida por computadora (CAE), Dinámica de fluidos computacional (CFD)

Keywords

Maestría en Sistemas Integrados de Manufactura y Estrategias de Calidad

Citation

Collections